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  • 高剪切研磨分散机

    高剪切研磨分散机

    研磨分散机是高剪切胶体磨+高剪切分散机的设备,将两者一体化,解决了时间差的问题,因为物料团聚是一个瞬间的过程,研磨后立即分散,效果好,效率高。

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  • 研磨分散机

    研磨分散机

    研磨分散机将三级高剪切均质乳化机进行改装,将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。

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  • GMD2000醇类硅溶胶高剪切研磨分散机

    醇类硅溶胶高剪切研磨分散机

    醇类硅溶胶高剪切研磨分散机可以处理量大,运转更平稳,拆装更方便,适合工业化在线连续生产,粒径分布范围窄,分散效果佳,无死角

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  • GMD2000二氧化钛超高速研磨分散机

    二氧化钛超高速研磨分散机

    二氧化钛超高速研磨分散机定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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  • GMD2000无机彩色颜料研磨分散机

    无机彩色颜料研磨分散机

    无机彩色颜料研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

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  • GMD2000氟橡胶氧化镁研磨分散机

    氟橡胶氧化镁研磨分散机

    氟橡胶氧化镁研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

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  • GMD2000/4纳米氢氧化镁研磨分散机

    纳米氢氧化镁研磨分散机

    纳米氢氧化镁研磨分散机,SGN纳米氢氧化镁研磨式分散机,是由胶体磨+高剪切分散机组成,形成一体化的设备,先研磨后分散,避免物料团聚。

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  • GMD2000食品研磨分散机

    食品研磨分散机

    食品研磨分散机该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

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