• GRS 2000/4聚酰亚胺分散机价格
    GRS 2000/4聚酰亚胺分散机价格

    聚酰亚胺分散机价格是高剪切均质分散机是高效、快速、均匀地将一个相或多个相固体进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。当其中一种或者多种材料的细度达到微米数量级时,甚至纳米级时,体系可被认为均质。

    更新日期:2025-07-01型号:GRS 2000/4
  • GMD2000硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机价格
    GMD2000硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机价格

    GMD2000硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机价格系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

    更新日期:2025-07-01型号:GMD2000
  • GRX 2000/4纳米氧化铈分散机价格
    GRX 2000/4纳米氧化铈分散机价格

    纳米氧化铈分散机价格 ,高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的。根据一些行业特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基础上又开发出GRX2000超高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm,转子的速度可以达到66m/s。

    更新日期:2025-07-01型号:GRX 2000/4
  • GMSD2000头孢噻呋高剪切研磨分散机价格
    GMSD2000头孢噻呋高剪切研磨分散机价格

    头孢噻呋高剪切研磨分散机价格,一般采用研磨混合法研制头孢噻呋混悬液,并一般采用高品质的研磨混合设备,因为混悬液的粒径会影响产品的稳定性以及药性。采用GMSD2000系列研磨分散机进行头孢噻呋混悬液的研磨混合分散,一般粒径可达DN90≤5μm,产品均匀度更高。并且GMSD2000系列更环节都带有夹套,处理过程中可对物料进行温度控制;清洗方便,符合在线清洗和灭菌。

    更新日期:2025-07-01型号:GMSD2000
  • GMSD2000*的头孢噻呋胶体磨研磨分散设备
    GMSD2000*的头孢噻呋胶体磨研磨分散设备

    *的头孢噻呋胶体磨研磨分散设备,头孢噻呋注射液研磨分散机 是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。 *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。 第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同。

    更新日期:2025-07-01型号:GMSD2000
  • GRS2000有机硅树脂分散机价格
    GRS2000有机硅树脂分散机价格

    有机硅树脂分散机价格:*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

    更新日期:2025-07-01型号:GRS2000
共 744 条记录,当前 88 / 124 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页